PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品應用：該電爐采用紅外燈管加熱，通過滑動爐體實現快速降溫。應用于半導體或太陽能電池基片退火。也可用于快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化、硅化物合金退火、電極合金化、氧化物生長、離子注入后退火、薄膜沉積等工藝試驗 。

操作便捷性：抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結構。簡化安裝過程，只需用卡箍便可完成連接，方便操作 。

真空快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。